หลักการพื้นฐานและกระบวนการหลักของแบตเตอรี่ผลึกซิลิคอน

ตลาดเซลล์แสงอาทิตย์ทั่วโลกถูกครอบงำโดยเซลล์ผลึกซิลิคอน การปรับปรุงประสิทธิภาพและลดต้นทุนของแบตเตอรี่ผลึกซิลิคอนเป็นกุญแจสำคัญในการพัฒนาอุตสาหกรรมเซลล์แสงอาทิตย์ ตั้งแต่เซลล์แบ็คฟิลด์อะลูมิเนียมที่ผลิตขึ้นเป็นจำนวนมากจนถึง PERC (เซลล์สัมผัสทูนเนลออกไซด์และการสัมผัสกลับ) ไปจนถึงเซลล์ HJT (เซลล์ที่อยู่ตรงข้ามกันของชั้นอสัณฐานภายใน) และเซลล์ TOPCon (เซลล์สัมผัสทูนเนลออกไซด์ทูนเนลออกไซด์) และเซลล์ลามิเนตในอนาคต ประสิทธิภาพของเซลล์แสงอาทิตย์กำลังใกล้ถึงขีดจำกัด ซึ่งนำไปสู่ความก้าวหน้าในด้านต้นทุนและขนาด

แม้ว่าเทคโนโลยีของเซลล์แสงอาทิตย์จะทำซ้ำและปรับปรุงประสิทธิภาพแล้ว แต่หลักการพื้นฐานและกระบวนการหลักของเซลล์ผลึกซิลิคอนยังคงไม่เปลี่ยนแปลง นั่นคือการทำความสะอาดแคชเมียร์ เงื่อนการแพร่กระจาย การเคลือบทู่ การเคลือบโลหะสี่ขั้นตอน

1) การทำความสะอาด Flocking Cleaning ส่วนใหญ่จะใช้เพื่อขจัดสิ่งสกปรกและชั้นความเสียหายบนพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์ Flocking ใช้เพื่อสร้างโครงสร้างพีระมิดบนพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์เพื่อลดการสะท้อนแสง

2) ทางแยก PN เป็นโครงสร้างหลักของเซลล์แสงอาทิตย์ โดยปกติจะเหมาะสำหรับแบตเตอรี่จุดรวมที่เป็นเนื้อเดียวกัน

3) ฟิล์มเคลือบฟิล์มถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวของเซลล์โดยการชุบสูญญากาศ ซึ่งมีบทบาทสำคัญในการปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลล์และเป็นจุดเริ่มต้นหลักของการปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลล์

4) Metallization ใช้ในการสร้างอิเล็กโทรดด้านหน้าและด้านหลังของเซลล์แสงอาทิตย์ โดยปกติจะใช้วิธีพิมพ์สกรีน กระบวนการทำให้เป็นโลหะมีความเกี่ยวข้องอย่างใกล้ชิดกับกระบวนการทู่ และมีบทบาทสำคัญในการลดการรวมตัวกันใหม่และการสูญเสียความต้านทาน นอกจากนี้ยังมีการแกะสลัก การตรวจจับ และขั้นตอนทั่วไปอื่น ๆ ในสายเทคโนโลยีแบตเตอรี่ที่แตกต่างกันเล็กน้อย